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In2Fab新推專利工具,大幅加快模擬利用

發(fā)布日期:2022-07-15 點擊率:81

位于英國Buckinghamshire的In2Fab Technology公司最近推出一套工具,據(jù)稱可將在某種工藝節(jié)點創(chuàng)建的模擬設(shè)計和知識產(chǎn)權(quán)(IP),迅速地重定目標(biāo)(retarget),用于另一種工藝節(jié)點。

In2Fab表示,其Osiris系列工具基于其專利的“復(fù)雜節(jié)點縮放(complex nodal scaling)技術(shù)”,能夠在工藝幾何尺寸之間端接復(fù)雜的模擬電路,且能使整個電路維持精確的分層和拓?fù)潢P(guān)系。

例如,Osiris從130nm到90nm CMOS工藝轉(zhuǎn)換過程中,重新瞄準(zhǔn)了鎖相環(huán)(PLL)應(yīng)用,設(shè)置時間只用了兩個半小時,加工用了10分鐘,分析與調(diào)整用了3天。相比而言,據(jù)In2Fab CEO Robert Baker稱,采用傳統(tǒng)的方法重新調(diào)整類似的設(shè)計需花費1到2個月,大約1周重新畫線路圖,然后4到6周進(jìn)行器件布局??傮w上采用Osiris能縮短10倍以上的時間。

Baker表示Osiris重定目標(biāo)標(biāo)工藝自動化程度高?!叭绻麕缀纬叽缱兓?例如從180nm到130nm,設(shè)計可被縮放以實現(xiàn)優(yōu)化裸片尺寸?!盉aker透露,In2Fab目前正與歐洲集成器件制造商就65nm節(jié)點合作,期望使許多模擬和混合信號模塊能被用于商業(yè)化的系統(tǒng)級芯片(SoC)開發(fā)。